化學機械拋光液制備設備

簡要描述：化學機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

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化學機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類化學機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。

化學機械拋光液制備設備的特點：

經(jīng)過測試的工藝路線，已經(jīng)實現(xiàn)量產(chǎn)

智能控制，實時監(jiān)測，完整數(shù)據(jù)存儲，直觀顯示圖表

轉(zhuǎn)速可調(diào)，溫度可控，超聲波強度可調(diào)，可定時

操作方便簡潔，清洗容易

技術(shù)參數(shù)：

Items	實驗型Experiment Type	生產(chǎn)型Production Type
溫度Temperature（℃）	-30℃~80℃	-20℃~80℃
分散方式Dispersion Type	連續(xù)式continuous	連續(xù)式continuous
材質(zhì)Material quality	玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel	不銹鋼、鈦stainless steel
規(guī)格Specification	依容積depend on volume	定制customized
流量Flow rate	50~1000ml/min	可定制customized
介質(zhì)粘度media viscosity	≤104cP	≤104cP
攪拌轉(zhuǎn)速agitation speed	500~3000rpm依實際需求選擇	500~3000rpm依實際需求選擇
剪切轉(zhuǎn)速agitation speed	1400~20000rpm依實際需求選擇	1400~12000rpm依實際需求選擇
電源Power	220V/50Hz	220V/50Hz 、380V/50Hz
超聲功率Ultrasonic power	200~3000W	定制customized
超聲頻率Ultrasonic Frequency	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz	20KHz、28KHz、40KHz、68KHz
顯示方式Display model	數(shù)顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據(jù)需要可選擇	液晶觸摸屏LCD touch screen
其它Others	溫度、功率可調(diào)Temperature、power adjustment

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